Akıllı kumaşların üretiminde kullanılabilecek iletken lif yapısı geliştirildi

0
248

Gelişen teknoloji birçok alana yansımış ve çeşitli hastalıklar ile durumların monitörizasyonu ( takibi ) için çeşitli akıllı giysiler ve elektrotlar geliştirilmişti ancak elektrotların yerleşimiyle kumaş liflerinin dizilimi araştırmacıların karşısına çıkan sorunların başında geliyor.

Yukarıdaki durumu daha da iyileştirmek amacıyla MIT kurumundan Prof. Polina Anikeeva önderliğinde bir araya gelen araştırma ekibi ışığa duyarlı tiyol-epoksi/tiyol-en polimeri adı verilen polimer üzerine yoğunlaştı. Bahsi geçen polimerlerin ultraviyole ışık altında genel çözücülere karşı geçirgen olmayan bir tür yapı kazandığı belirtiliyor.

MIT

Araştırma ekibi polimer yapıyı bir tür ilekten filamanı kaplamak için kullandı ve fotolitografi adı verilen bir dizi yöntemle filaman boyunca aralıklı olarak opak ( ışığı geçirmeyen ) maddeler eklendi. Böylece bazı alanların UV ( ultraviyole ) ışığı geçirirken bazı alanların ışıktan korunması sağlandı.

Araştırma ekibi flamanı aseton ile muamele etti ve böylece filamanın dışındaki polimer yapı yerleştirilen opak maddeler sebebiyle aralıklı olarak çözündü böylece iletken filamanın bazı bölümleri açığa çıkarken bazı bölümlerinin üzerinde polimer yapı korunmuş oldu.

Yeni araştırma daha da geliştirilirse çeşitli akıllı kumaşların ve elektrotların geliştirilmesinde kullanılabilecek gibi görünüyor.

Yeni araştırma ACS Central Science adlı dergide yayımlandı.

CEVAP VER

Please enter your comment!
Please enter your name here